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簡介硅基底的傳感器因其高性能、低成本和小尺寸而廣泛應用于不同的MEMS微機電系統(tǒng)。懸浮在圖案上的硅膜或基于SOI的傳感器上的活性硅層的厚度對于控制最終平臺的性能至關重要[1]。在這里，我們已經在一個MEMS微機電系統(tǒng)壓力傳感器上測量了硅薄膜厚度，使用的是孔徑為250μm的FR-μProbe，該工具安裝在一個徠卡分模光學顯微鏡上。使用10倍物鏡進行測量，該物鏡與選定的孔徑大小一起對應于25μm的光斑大小(測量區(qū)域)。使用內部光源將FR-μProbe安裝在光學顯微鏡上測量方法獲得...

具有可控和可調節(jié)表面化學性質的清潔表面對于改善材料的界面，生物和電子性能，以獲得*佳的設備和結構性能至關重要。等離子體表面處理可去除納米級有機污染物，并在不影響整體材料的情況下改變表面化學性質。等離子清洗的好處等離子體清潔是通過化學反應（O2或空氣等離子體）或物理消融（Ar等離子體）去除有機污染物。等離子體處理還在表面上引入了化學官能團（羰基，羧基，羥基），使大多數(shù)表面具有親水性，水接觸角的減小和潤濕性的提高。清潔且親水的表面通常對于促進附著力和增強與其他表面的粘合至關重要。...

WABASH平板硫化機主要用于硫化平型膠帶（如輸送帶、傳動帶，簡稱平帶），它具有熱板單位面積壓力大，設備操作可靠和維修量少等優(yōu)點。平板硫化機的主要功能是提供硫化所需的壓力和溫度。壓力由液壓系統(tǒng)通過液壓缸產生，溫度由加熱介質（通常為蒸汽）所提供。平帶平板硫化機按機架的結構形式主要可分為柱式平帶平板硫化機和框式平帶平板硫化機兩類；按工作層數(shù)可有單層和雙層之分：按液壓系統(tǒng)工作介質則可有油壓和水壓之分。WABASH平板硫化機操作方法：1、按模具尺寸和規(guī)定的單位壓力調整壓力表，嚴禁超壓...

MC應用｜Harrick等離子清洗機PDMS鍵合小能手！HarrickPlasma→PDMSBonding，時長00:14應用領域聚（二甲基硅氧烷）（PDMS）是基于硅酮的有機聚合物，因其低成本和多功能性而廣泛用于專業(yè)和學術研究實驗室。PDMS是惰性的，透明的，可通過軟光刻輕松定制，該技術用于成型PDMS并將納米級特征和微通道壓印到其表面上。Harrick等離子清洗機可去除有機污染物并激活PDMS表面，以用于與玻璃，PDMS或其他經過類似處理的表面進行粘合。PDMS鍵合于微流...

科研圈｜超逼真20張動圖，秒懂四大電鏡原理（SEM,TEM,AFM,STM）！材料的顯微分析能獲得材料的組織結構，揭示材料基本性質和基本規(guī)律，在材料測試技術中占重要的一環(huán)。對各種顯微分析設備諸如SEM、TEM、AFM、STM等，各位材料屆的小伙伴一定不會陌生。最近小編發(fā)現(xiàn)一些電鏡動畫，被驚艷到，原來枯燥無味的電鏡可以變得這么生動，閑言少敘，下面就和大家一起來分享。掃描電子顯微鏡（SEM）掃描電鏡成像是利用細聚焦高能電子束在樣件表面激發(fā)各種物理信號，如二次電子、背散射電子等，通...

光刻膠的顯影和光刻工藝今天小編要跟大家簡要介紹關于光刻膠的顯影過程和光刻工藝處理的一些相關內容。光刻工藝可用五個指標來衡量其效果：分辨率、靈敏度、套刻對準精度、缺陷率和硅片加工過程處理問題，其中有3個指標，分辨率、靈敏度和缺陷率是與涂膠顯影的工藝精度有重要。顯影過程是將曝光后的光刻膠中與紫外光發(fā)生化學反應的部分除去或保留下來的過程。顯影的主要過程如下：對準曝光→曝光后烘→顯影→堅膜→顯影檢測。1對準曝光（AlignmentａndExposure）對準曝光階段是光刻工藝的重要階...

目前，MEMS發(fā)展迅速，已廣泛應用于醫(yī)療、軍事、航空、航天、汽車工業(yè)等領域。MEMS種類繁多，如MEMS傳感器、MEMS執(zhí)行器和光MEMS等，而各種薄膜在MEMS制造加工工藝中充當了重要角色。根據MEMS加工工藝需要，往往需要制作各種不同厚度的薄膜，薄膜厚度對工藝、后成型的器件性質有至關重要的影響。隨著薄膜厚度的變化其性質往往也出現(xiàn)不同，精確測量各種功能薄膜的厚度值在MEMS制造加工領域有非常重要的意義。下面小編來介紹幾種測量薄膜厚度的方法研究和對比：01接觸式表面輪廓儀利用...