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桌面微型紫外光刻機，專為微米級圖案制作而設計，旨在保障圖形轉(zhuǎn)移精度，其緊湊的體積將移形換影置于桌面之上，為操作提供了便利與精準。

光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導體或玻璃基板上的光學技術(shù)。

光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導體或玻璃基板上的光學技術(shù)。

MYCRO*荷蘭光刻機（掩膜曝光光刻機Mask Aligner ），是的光刻系統(tǒng)，為半導體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。

MYCRO*荷蘭光刻機（光刻機Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，為半導體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。

MYCRO*荷蘭光刻機（光刻機Mask MSMA），是的光刻系統(tǒng)，為半導體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域?？蛻羧缑绹娇蘸教旃尽w利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦大學等等。