當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng) > EDC系列 > EDC-650Hz-23NPPBLaurell-EDC勻膠顯影機(jī)
簡(jiǎn)要描述:Laurell-EDC勻膠顯影機(jī)系列勻膠顯影系統(tǒng)適用于半導(dǎo)體前段制程的勻膠,顯影,刻蝕,沖洗,甩干等工藝,可通過(guò)程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕,我們有著近三十年半導(dǎo)體濕法工藝的經(jīng)驗(yàn)積累,通過(guò)對(duì)各路試劑注射的控制,對(duì)氮?dú)夂腿ルx子水綜合應(yīng)用,能夠完整實(shí)現(xiàn)樣片的干進(jìn)干出。是當(dāng)今*和經(jīng)濟(jì)的濕法處理解決方案。
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Laurell-EDC勻膠顯影機(jī)(英文名:Developing) 型號(hào):EDC-650Hz-23NPPB 產(chǎn)地:美國(guó) 一、產(chǎn)品概述: Laurell-EDC勻膠顯影機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝,制版的表面顯影。一般勻膠顯影機(jī)由動(dòng)力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部分組成。 二、勻膠顯影機(jī)工作原理: 顯影系統(tǒng)具有可編程閥,它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應(yīng)用的要求重復(fù)進(jìn)行,如沖洗(通常是去離子水或溶劑),然后干燥(通常是氮?dú)猓┖蟮奶幚聿襟E。采用此序貫閥門(mén)技術(shù)的晶圓片和管道在*干燥的環(huán)境中開(kāi)通和關(guān)閉處理過(guò)程。隔離和獨(dú)立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內(nèi)調(diào)節(jié)。勻膠顯影機(jī)還有可選擇的動(dòng)態(tài)線(xiàn)性或徑向滴膠的特性。 三、勻膠顯影機(jī)主要性能指標(biāo): 1、腔體尺寸:9英寸 (220 毫米); 2、Wafer&芯片:直徑6英寸(150毫米)的晶圓片或者5x5英寸(125毫米)的方片; 3、非真空托盤(pán):聚丙烯材質(zhì)非真空托盤(pán),可承載2、3英寸及150毫米的晶圓片-并帶有背面清洗功能; 3、轉(zhuǎn)動(dòng)速度:0-12,000rpm, 5、馬達(dá)旋涂轉(zhuǎn)速:穩(wěn)定性能誤差 < ±1%; 6、工藝時(shí)間設(shè)定:1-5999.9 sec/step 0.1 精度; 7、高精度數(shù)碼控制器:PLC控制,設(shè)置點(diǎn)精度小于0.006%; 8、程序控制:可存儲(chǔ)20個(gè)程序段,每個(gè)程序段可以設(shè)置51步不同的速度狀態(tài); 9、分辨率:分辨率不超過(guò)1轉(zhuǎn)/分,可重復(fù)性不超過(guò)1轉(zhuǎn)/分,美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究院(NIST)認(rèn)證過(guò)的,并且無(wú)需再校準(zhǔn)!] 10、腔體開(kāi)關(guān)蓋板:透明ECTFE材質(zhì)圓頂蓋板,便于實(shí)時(shí)進(jìn)行可視化操作; 11、腔體材質(zhì)說(shuō)明:用聚丙烯材質(zhì)制成的帶有聯(lián)動(dòng)傳感觸點(diǎn)的合瓣式艙體; 13、配套真空泵系統(tǒng):無(wú)油型 220~240伏交流,50/60赫茲; |
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