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簡(jiǎn)要描述:一、美國(guó)PIE等離子清洗機(jī)應(yīng)用等離子清洗機(jī)清除樣品表面的污染物,去除光阻膠:產(chǎn)生表面活性功能組;清洗提高材料表面親水性及疏水性,清洗生物芯片、微流控芯片,PDMS;表面活化:渲染表面的親水性或疏水性,鍵合和沉積前的表面預(yù)處理表面聚合:沉積帶官能分子團(tuán)的聚合物,移植聚合物到活化后的材料表面;表面改性:在材料表面產(chǎn)生官能分子團(tuán),高分子材料表面修飾;去除表面殘留微生物,醫(yī)療器械的消毒和
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二、美國(guó)PIE等離子清洗機(jī)的特點(diǎn)
1、13.56MHz高頻射頻發(fā)生器;
2、7英寸觸摸屏控制界面,全自動(dòng)操作;
3、標(biāo)配75W版本,可選150W版本;
4、系統(tǒng)具有雙等離子源。浸入式等離子源用于主動(dòng)表面處理、光刻膠蝕刻。遠(yuǎn)程式等離子源用于溫和的污染清除以及脆弱易損樣品的表面活化。
三、美國(guó)PIE等離子清洗機(jī)技術(shù)參數(shù)
1、控制系統(tǒng)
1)操作界面:7英寸電阻觸摸屏操作界面,支持多種工作方式。
2)程序控制:可編程,總共有20個(gè)程序,每個(gè)程序有3個(gè)清潔步驟。
2、反應(yīng)腔體
1)腔體材質(zhì):圓柱形石英玻璃艙;
2)腔體容積:2.6L;
3)腔體尺寸:內(nèi)徑:110毫米,深度:280毫米。
3、射頻電源
1)射頻頻率:13.56MHz;
2)射頻功率:標(biāo)配0~75W;從0瓦到75瓦之間以1瓦間距連續(xù)可調(diào),可選0~150W;。
4、等離子源
1)等離子強(qiáng)度探測(cè)器實(shí)時(shí)測(cè)量等離子源強(qiáng)度。
2)外置電極設(shè)計(jì),高壓電極不合等離子接觸以避免金屬濺射造成的樣品污染。
5、氣體控制
1)氣路控制:標(biāo)配一路MFC;可選配三路MFC;
2)質(zhì)量流量計(jì)可以在0~100sccm之間準(zhǔn)確控制氣體流量;
3)一路(Venting and purging)氣體入口用來快速給樣品室放氣和沖走殘余處理氣體。
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