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簡要描述：德國Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學波導制作的光膠可供選擇。
產(chǎn)品型號：ma-N 2400、mr-EBL 廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2024-05-17訪 問 量：2625產(chǎn)品分類
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德國Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學波導制作的光膠可供選擇。
ma-N 2400系列
電子束和深紫外曝光
電子束和深紫外靈敏；非常適合作為刻蝕掩模，*的抗干刻、濕刻性能；膠圖案良好的熱穩(wěn)定性；優(yōu)異的圖案分辨率-50 nm以下；堿性水溶液下顯影；
mr-EBL 6000
電子束曝光
電子束和深紫外靈敏；非常適合作為刻蝕掩模，*的抗干刻、濕刻性能；光膠圖案良好的熱穩(wěn)定性；優(yōu)異的圖案分辨率-80 nm以下；堿性水溶液下顯；
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