美國Futurrex光刻膠

簡要描述：Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長期與Intel實驗室合作，產(chǎn)品被廣泛收錄進美國各大學半導體教程，是各大研究機構(gòu)產(chǎn)品。

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：代理商
更新時間：2024-05-17
訪問量：4077

產(chǎn)品咨詢聯(lián)系我們

產(chǎn)品分類

光刻膠

SU-8膠顯影液 Futurrex光刻膠納米光刻壓印膠查看全部產(chǎn)品

相關(guān)文章

詳細介紹

Futurrex產(chǎn)品優(yōu)勢：

1、Futurrex光刻膠黏附性好，無需使用增粘劑（HMDS）

2、負性光刻膠常溫下可保存3年

3、150度烘烤，縮短了烘烤時間

4、單次旋涂能夠達到100um膜厚

5、顯影速率快，100微米的膜厚，僅需6~8分鐘

應用領(lǐng)域	型號	特性
半導體	NR9-PY	用于lift-off工藝，高黏附性、高效，耐高溫
	NR71-PY	用于lift-off工藝，高溫，可作為間隔材料
	NR9-P	高黏附性，適用于電鍍和濕法刻蝕
	NR71-P	做掩膜，適用于干法刻蝕，可作為間隔材料
	NR21-P	100um的膜厚，具有良好的分辨率
	NR5	可作厚膜掩膜，適用于離子刻蝕
	PR1	耐高溫，用于一般圖案的正性光刻膠，離子刻蝕，濕法刻蝕
	IC1/DC5	濾波等電解質(zhì)材料
	PC3	平坦化，臨時黏附及機械保護
	BDC1/PDC1/ZPDC1	摻雜工藝
太陽能	BDC1	摻硼材料
	PDC1	摻磷材料
	NR71/NR9-PY	用于lift-off工藝，高黏附性、高效，耐高溫/做間隔材料
	NR9-P	高黏附性，適用于電鍍和濕法刻蝕
LED/OLED/HBLED	NR9-PY	用于lift-off工藝，高黏附性、高效，耐高溫
	NR71-P	做掩膜，適用于干法刻蝕，可作間隔材料
	IC1	濾波等電解質(zhì)材料
MEMS	NR9-P	高黏附性，適用于電鍍和濕法刻蝕
	NR5/NR71	可作厚膜掩膜，適用于離子刻蝕/做掩膜，可作間隔材料
	NR2	可實現(xiàn)120um膜厚，6：1深寬比的圖案，適用于電鍍、濕法刻蝕
	NR71/NR9-PY	用于lift-off工藝，高黏附性、高效，耐高溫/做間隔材料
	PC3	平坦化，臨時黏附及機械保護
	IC1	濾波等電解質(zhì)材料
微流體與生物芯片	NR71-P	做掩膜，適用于干法刻蝕，可作間隔材料
	NR2	可實現(xiàn)120um膜厚，6：1深寬比的圖案，適用于電鍍、濕法刻蝕
	NR5	可作厚膜掩膜，適用于離子刻蝕
光電子	NR71/NR9-PY	用于lift-off工藝，高黏附性、高效，耐高溫/做間隔材料
	NR71-P	做掩膜，適用于干法刻蝕，可作間隔材料
	PR1	刻蝕制程中的正性光刻膠，適用于噴涂和輥涂
	NR9-P	高黏附性，適用于電鍍和濕法刻蝕
	NR2-P	可實現(xiàn)100um膜厚的凹凸圖案，分辨率好，易于去膠
封裝	NR2-P	可實現(xiàn)100um膜厚的凹凸圖案，分辨率好，易于去膠
	NR5	可作厚膜掩膜，適用于離子刻蝕
	PR1	刻蝕制程中的正性光刻膠，適用于噴涂和輥涂
平坦化	PC3	平坦化，臨時黏附及機械保護
圖案印刷	PR1	刻蝕制程中的正性光刻膠，適用于噴涂和輥涂
圖案印刷	NR9	增強了黏附性，適用于噴涂和輥涂
顯影液	RD6	顯影時間短，適用于正、負性光刻膠，
去膠液	RR41/RR5	可以安全、高效的去除光刻膠及臨時涂層，適用于多種襯底材料
邊膠清洗液	EBR2	高效、快速的邊膠去除

產(chǎn)品咨詢

留言框

產(chǎn)品：
您的單位：
您的姓名：
聯(lián)系電話：
常用郵箱：
省份：
詳細地址：
補充說明：
驗證碼：

請輸入計算結(jié)果（填寫阿拉伯數(shù)字），如：三加四=7

上一篇：PR3、PR41Futurrex去膠液
下一篇：Solaris 100 /150/200SSI快速退火爐

熟女99久久亚洲二三区-国产人成免费在线视频-亚洲区福利视频免费看-国产精品亚洲精品专区

美國Futurrex光刻膠

留言框

產(chǎn)品：

您的單位：

您的姓名：

聯(lián)系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細地址：

補充說明：

驗證碼：