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當(dāng)前位置:首頁(yè)   >  產(chǎn)品中心  >  紫外臭氧清洗機(jī)  >  Jelight系列  >  Model18美國(guó)Jelight紫外臭氧清洗機(jī)

美國(guó)Jelight紫外臭氧清洗機(jī)

簡(jiǎn)要描述:Jelight紫外臭氧清洗機(jī)是一種快速干法表面清洗工具。其原理是利用紫外光子對(duì)有機(jī)物質(zhì)所起的光敏氧化作用以達(dá)到清洗粘附在物體表面上的有機(jī)化合物(碳?xì)浠衔铮┑哪康?。是清除硅、砷化鎵、石英、藍(lán)寶石、玻璃、云母、陶瓷、金屬等表面有機(jī)污染物的較安全、較有效的方法。 除清洗外,Jelight紫外臭氧清洗機(jī)還可用于表面改質(zhì),如通過(guò)紫外處理后,涂層與表面的粘附力可大大增加,可用于生物芯片制作過(guò)程中PDMS鍵合

  • 產(chǎn)品型號(hào):Model18
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2024-05-17
  • 訪  問(wèn)  量:2982

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詳細(xì)介紹

紫外臭氧清洗優(yōu)點(diǎn):

1. 被清洗的表面除了光子,不與任何物體發(fā)生接觸,有機(jī)物經(jīng)過(guò)紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后,生成可揮發(fā)性氣體

  CO2CO、H2O等)從表面消散,隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走。

2. 表面潔凈度高,且不會(huì)像溶液清洗時(shí)發(fā)生二次污染。

3. 光清洗的表面不會(huì)受到損傷,由于光子的能量相對(duì)比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小,光清洗后的表面不

    會(huì)受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。

4. 光清洗對(duì)物體表面微細(xì)部位(如孔穴、微細(xì)溝槽等)具有有效而*的清洗效果。由于紫外光是納米短波紫外線,能夠

    射入材料表面的極為 細(xì)微的部位,發(fā)生光敏氧化反應(yīng),充分表現(xiàn)出光清洗的*性。

 

相關(guān)應(yīng)用

■在進(jìn)行薄膜沉積之前*行基片清洗。清除浮渣和穩(wěn)定化處理光刻膠。超高真空度密封。

■清洗硅芯片,透鏡,反光鏡,太陽(yáng)能面板,冷軋鋼,慣性引導(dǎo)零件和 GaAs芯片

■清潔焊劑,混合電路以及平板LCD顯示器

■蝕刻特氟隆,氟橡膠以及其它有機(jī)材料

■增強(qiáng)GaAs Si氧化物鈍化表面

■增強(qiáng)玻璃的除氣作用

■基片藍(lán)膜去除

■增強(qiáng)塑料表面的鍍膜的粘附性

■基片終測(cè)后墨跡清楚

■去除光刻膠

■平板顯示器/液晶顯示器

■去除光刻機(jī)臺(tái)上的光刻膠殘留物

■在電路板封裝和打片之前清洗)

■光纖

■增強(qiáng)表面親水特性

■為生物科學(xué)應(yīng)用做清洗和消毒

■光學(xué)透鏡

■其它應(yīng)用

臭氧發(fā)生器

Ozone Generator

臭氧(氧化電位2.7eV)的反應(yīng)活性相當(dāng)強(qiáng),是一種強(qiáng)氧化劑。在許多新領(lǐng)域的研發(fā)過(guò)程中,它逐漸成為*的元素之一。其中包含化學(xué)實(shí)驗(yàn)室,大學(xué)以及電子,醫(yī)藥,化學(xué),生物和醫(yī)學(xué)研究機(jī)構(gòu)。在工業(yè)應(yīng)用的范圍也增加許多。例如半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),環(huán)境研究。飲用水及污水處理,塑料和包裝產(chǎn)業(yè)以及食品加工技術(shù)。臭氧也被常用為殺菌與消毒液體,氣體和固體有機(jī)物質(zhì)。無(wú)論是單一的實(shí)驗(yàn)室或?qū)嶒?yàn)工廠,甚至工業(yè)生產(chǎn)的規(guī)模,由于新的技術(shù),使生產(chǎn)臭氧不再成為經(jīng)濟(jì)負(fù)擔(dān)。本公司的產(chǎn)品專門使用低壓汞氣燈所放射出的短波紫外線,來(lái)產(chǎn)生純凈的臭氧。訂購(gòu)時(shí),請(qǐng)指明120VAC/60Hz220VAC/50Hz的電源供應(yīng)器。

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