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當前位置:首頁   >  產品中心  >  勻膠機/勻膠旋涂儀  >  M6系列  >  M6 Spin CoaterMINN M6勻膠旋涂儀

MINN M6勻膠旋涂儀

簡要描述:MINN M6勻膠旋涂儀 可旋涂處理小碎片至6英寸圓晶圓片,使用無刷直流雙向旋轉馬達控制,轉速穩(wěn)定,控制器可拆卸配合手套箱使用,4.3英寸全彩觸屏人機界面操作,簡單易用。M6 Spin Coater外形美觀,結構緊湊,專為實驗室,研發(fā)和小規(guī)模生產部門提供性價比高的勻膠涂覆設備。M6 Spin Coater在材料、化學或生物等實驗室被廣泛用于薄膜制備,納米薄膜研究等相關領域。

  • 產品型號:M6 Spin Coater
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-05-17
  • 訪  問  量:3272

詳細介紹

MINN M6勻膠旋涂儀 可旋涂處理小碎片至6英寸圓晶圓片,使用無刷直流雙向旋轉馬達控制,轉速穩(wěn)定,控制器可拆卸配合手套箱使用,4.3英寸全彩觸屏人機界面操作,簡單易用。M6 Spin Coater外形美觀,結構緊湊,專為實驗室,研發(fā)和小規(guī)模生產部門提供性價比高的勻膠涂覆設備。MINN M6勻膠旋涂儀 在材料、化學或生物等實驗室被廣泛用于薄膜制備,納米薄膜研究等相關領域。

 

二、技術參數

1.保護氣體裝置:旋涂過程中對旋轉馬達進行氣流保護(可選擇取消);

2.支持Wafer尺寸:小標配為10 mm,可選配到3mm或5mm;大到直徑6英寸(150mm)的圓片或邊長5x5英寸(125x125mm)的方片,無需更換片托;

3.設備材質:全部采用易清潔的NPP天然聚丙烯材質,環(huán)保,抗震,耐腐蝕;

4.無刷馬達:直流雙向旋轉,正反旋轉速度±100~±12000rpm,穩(wěn)定性能誤差±1rpm;

5.馬達安全模式:可設置非真空模式,轉速3000rpm,加速度500rpm/s

6.加速度可控范圍:100-30000RPM/S;

7.工藝時間:每步可以設定45小時,精度不超過0.1秒;

8. PLC控制:4.3英寸全彩觸摸屏高精度PLC可編程的控制器;

9.程序段:可存儲99個程序段,每個程序段可設置50個不同步驟的速度狀態(tài);

10.無油真空泵:220V/50Hz真空吸附范圍25-28 英寸汞柱 (~635-711毫米汞柱)可調節(jié);

11.擴展功能:可升級預留端口,可擴展自動滴膠裝置、自動去邊裝置、手動去邊等選配項。

 

三、設備性能特點

馬達控制:無刷直流雙向旋轉;

智能程控:控制器可拆卸,4.3英寸寸全彩觸屏,配有智能觸碰筆,按鍵有提示音,選中功能有顏色區(qū)分,適用于手套箱;

腔體材質:易清潔的NPP天然聚丙烯材質,抗腐蝕性;

模式切換:可自由切換單步模式、多步模式和曲線分析圖;

防止堵膠:雙真空腔設計;

預留端口:可升級擴展其他多種選配項;

密碼功能:設有開機密碼和管理員密碼,管理員有權限修改核心參數;

安全報警:系統(tǒng)蓋板嵌鎖、真空異常、通氣異常、系統(tǒng)進膠、馬達轉速異常均會報警,通過聲音和界面對話框提示;

氣流保護:旋涂過程中對馬達進行氣流保護(也可選擇取消),易維護,易清潔,大幅提高馬達使用壽命;

 

四、應用領域

  • 半導體芯片制造
  • 鈣鈦礦太陽能電池制備
  • 微納和微流控
  • 納米薄膜
  • 高分子材料
  • 有機光伏
  • 有機發(fā)光二極管
  • 有機場效應晶體管&薄膜晶體管
  • 石墨烯&二維材料

 

主營產品:

Laurell勻膠機     

Harrick等離子清洗機

Thetametrisis膜厚儀  

Microxact探針臺

ALD原子層沉積系統(tǒng)

TRION反應離子刻蝕機

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻機       

Novascan紫外臭氧清洗機

Nilt納米壓印機

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

Annealsys高溫退火爐

Kinematic程序剪切儀

Laurell EDC系統(tǒng),濕站系統(tǒng)     

Wabash/Carver自動壓片機

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