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濺射鍍膜機

簡要描述:是Quorum的市場較好的濺射和碳涂層機系列的*新版本。它們越來越多地用于高分辨率顯微鏡,其中包括超細(xì)涂層。范圍更廣的是SC7620,這是一款緊湊的入門級SEM濺射鍍膜機,可提供可選的碳纖維蒸發(fā)附件

  • 產(chǎn)品型號:SC7620
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2024-05-17
  • 訪  問  量:3110

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詳細(xì)介紹

濺射鍍膜機和SEM /TEM碳鍍膜機
 
 
Quorum濺射鍍膜機
濺射鍍膜機簡介
濺射鍍膜機和SEM / TEM碳鍍膜機
Q Plus系列  是Quorum的市場較好的濺射和碳涂層機系列的*新版本。它們越來越多地用于高分辨率顯微鏡,其中包括超細(xì)涂層。
濺射鍍膜是在掃描電子顯微鏡(SEM)上進(jìn)行觀察之前制備不導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉?biāo)本的標(biāo)準(zhǔn)方法。Quorum提供低成本,旋轉(zhuǎn)泵浦濺射鍍膜機,用于沉積非氧化金屬(例如金(Au)和鉑(Pt))以及渦輪分子泵鍍膜機,適用于氧化和非氧化金屬(例如鉻(鉻)。
為了提供改進(jìn)的超細(xì)涂層,Quorum推出了NEW Q150V Plus,該產(chǎn)品可提供1 x 10 -6 mbar 的極限真空度,以提供出色的效果。
大腔室濺射鍍膜機可用于直徑*大為200 mm的樣品。大多數(shù)Quorum涂層機也可以配置為使用易更換的碳棒和碳纖維插件進(jìn)行碳蒸發(fā)。
 
選購說明:
Q150V是適合于高真空應(yīng)用。這款新產(chǎn)品使用戶能夠生產(chǎn)出更細(xì)的晶粒尺寸和更薄的涂層,以用于超高分辨率應(yīng)用(放大倍數(shù)達(dá)20萬倍)。
Q150T Plus涂布機適用于SEM,TEM和許多薄膜應(yīng)用。它有三種形式:作為濺射鍍膜機,碳鍍膜機,或在單個緊湊系統(tǒng)中同時進(jìn)行濺射和碳蒸發(fā)。
Q150R Plus涂布機適用于使用非氧化性金屬的W-SEM濺射應(yīng)用,以及適用于EDS和WDS的碳涂層SEM標(biāo)本。
對于較大的樣品,Q300T T Plus(渦輪分子泵)型號允許涂覆單個*大直徑為8“ / 200 mm的大直徑樣品(例如晶片),或多個直徑相似的較小樣品。兩個都具有三個濺射頭確保涂層均勻沉積。
對于薄膜應(yīng)用,Q300T D Plus雙靶順序濺射鍍膜機可連續(xù)濺射金屬層,而無需破壞真空。
該Q150 GB是Q150T的模塊化版本ES涂布機設(shè)計集成到一個手套箱。
范圍更廣的是SC7620,這是一款緊湊的入門級SEM濺射鍍膜機,可提供可選的碳纖維蒸發(fā)附件
 
 
SC7620迷你濺射鍍膜機
SC7620是一款緊湊型入門級SEM濺射鍍膜機。當(dāng)與可選的SC7620-CF碳纖維蒸發(fā)附件結(jié)合使用時,它是理想的低成本SEM濺射和碳涂層系統(tǒng)封裝。此外,SC7620標(biāo)配帶輝光放電功能,使其非常適合碳涂層TEM網(wǎng)格的親水化或潤濕以及其他表面改性。
主要特征
  • 操作簡單
  • 設(shè)計緊湊,占地面積小
  • 輝光放電能力
  • 碳纖維蒸發(fā)選項
  • 可調(diào)高度的樣品臺
  • 易于更換的濺射靶-/鈀(Au / Pd)標(biāo)準(zhǔn)
SC7620主要設(shè)計用于在鎢絲SEM中檢查樣品之前進(jìn)行涂層。
對于大多數(shù)FE-SEM應(yīng)用所需的額外細(xì)晶粒涂層,需要高真空涂層-請參見Q150T或Q300TT。
有關(guān)用于W-SEM應(yīng)用的全自動涂布機,請參見Q150R。
這些產(chǎn)品僅供研究使用。
操作簡便
SC7620是理想的易于使用的儀器,是一款性價比高的設(shè)備。專為常規(guī)應(yīng)用而設(shè)計,SC7620使用基本的磁控濺射頭和易于更換的圓盤靶(金/鈀為標(biāo)準(zhǔn))。濺射頭采用鉸鏈連接,易于操作,并配有電氣安全聯(lián)鎖裝置。面板安裝開關(guān)可在濺射鍍膜和輝光放電模式之間切換系統(tǒng)。
為防止意外損壞,高壓導(dǎo)線被屏蔽。等離子電流可通過使用氬氣泄漏閥調(diào)節(jié)真空度并預(yù)先設(shè)置等離子電壓來改變。為了獲得*大的濺射鍍膜效率,氣體噴射器系統(tǒng)可確保氬氣進(jìn)入腔室的位置接近等離子體放電。排氣是氬氣。

真空要求

需要合適的旋轉(zhuǎn)真空泵。為此,Pfeiffer DUO 6 5 m 3 / hr兩級旋轉(zhuǎn)真空泵是理想的選擇。請參閱:訂購信息以獲取更多詳細(xì)信息。
快速的循環(huán)時間,高度可調(diào)的樣品臺

直徑100毫米/ 4英寸的耐熱玻璃圓柱體安裝在鋁制軸環(huán)上,并用O型圈密封。較小的真空室尺寸意味著抽氣時間和循環(huán)時間都很快,并且還允許使用小型經(jīng)濟(jì)型旋轉(zhuǎn)泵。
樣品臺是可調(diào)節(jié)高度的,可以很容易地卸下以容納更高的樣品。沉積速率由分辨率為15秒的180秒計時器手動控制。壓力和等離子電流由模擬儀表監(jiān)控。
濺射和SEM碳涂層(可選)

SC7620將沉積適用于鎢絲SEM的涂料,并且具有操作簡單,確??煽啃院瓦m用于一般用途的優(yōu)點。可以通過添加可選的碳蒸發(fā)附件將其快速轉(zhuǎn)換為沉積碳,該附件包括可切換的電壓電源和碳纖維頭。

輝光放電(親水化)

前面板上的三向開關(guān)可將SC7620切換到輝光放電模式。
新鮮制得的透射電子顯微鏡(TEM)碳支撐膜傾向于具有疏水性表面,該疏水性表面阻礙了TEM切片從水浴表面收集,并阻止了顆粒懸浮液在負(fù)污染溶液中的擴(kuò)散。因此,在用空氣進(jìn)行輝光放電處理之后,可以使碳膜親水并帶負(fù)電荷,從而可以收集TEM截面并易于分散水懸浮液。
Q150V Plus適用于高真空應(yīng)用中的超細(xì)涂層
Q150V Plus針對高真空應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化,極限真空度為1x10 -6  mbar。結(jié)合使用寬范圍的Penning / Pirani量規(guī),可以濺射具有超細(xì)晶粒尺寸的氧化金屬,適用于高分辨率成像。較低的壓力從腔室中除去了氧氣和水蒸氣,避免了濺射過程中的化學(xué)反應(yīng),否則可能導(dǎo)致涂層中的雜質(zhì)或缺陷。類似地,較低的散射允許高密度的高純度無定形碳膜。Q150V Plus具有Q150T Plus的所有優(yōu)點,但具有更細(xì)的晶粒尺寸和更薄的涂層,適用于超高分辨率應(yīng)用(放大倍數(shù)200,000)。
Q150R Plus-旋轉(zhuǎn)泵式涂布機
Q150R Plus適用于Tungsten / LaB6 SEM和臺式SEM。
Q150R Plus提供三種格式:
濺射  (Q150R Plus S)
碳纖維蒸發(fā)(Q150R Plus E)
濺射和碳線蒸發(fā)(Q150R Plus ES)
Q150T Plus-渦輪分子泵鍍膜機
Q150T Plus經(jīng)過優(yōu)化,可與渦輪分子泵配合使用,從而將真空度降低至5 x 10-5 mbar。
Q150T Plus提供三種格式:
 用于非氧化性金屬的自動濺射鍍膜機(Q150T S Plus)
       用于SEM應(yīng)用(Q150T E Plus)的自動碳涂層機(棒/繩)
       能夠同時進(jìn)行濺射和碳涂層的組合系統(tǒng)(Q150T ES Plus)
Q150 GB渦輪泵濺射鍍膜機/手套箱用碳鍍膜機
Q150GB是市場的Q150T ES臺式渦輪分子泵涂層系統(tǒng)的模塊化手套箱版本,  適用于SEM,TEM和許多薄膜應(yīng)用。Q150 GB標(biāo)配濺射和碳棒蒸發(fā)插件以及旋轉(zhuǎn)樣品臺。選件包括金屬蒸發(fā),輝光放電,膜厚測量和特殊的載物臺,以適應(yīng)各種樣品類型
 
 
Q300T D Plus-雙靶連續(xù)濺射,適用于直徑*大為150 mm的樣品
Q300T D Plus適用于兩種材料的多層順序濺射,具有兩個獨立的濺射頭,可以連續(xù)濺射兩種金屬而無需破壞真空。該系統(tǒng)是*自動化的,具有用戶定義的配方,可控制泵送順序,時間,濺射周期數(shù)以及過程中使用的電流。通過在兩個靶材之間循環(huán),可以依次濺射兩種靶材厚度不限的無限層。不使用時,將目標(biāo)物關(guān)閉以防污染。
 
Q300T T Plus-三靶濺射鍍膜機,用于*大直徑200mm的樣品
Q300T T Plus是一個大室,渦輪泵送涂層系統(tǒng),非常適合濺射*大8“ / 200mm的單個大直徑樣品或類似直徑的多個較小的樣品。非常適合薄膜應(yīng)用和SEM / FE- SEM。它配有三個濺射頭,以確保單個大樣品或多個樣品的均勻沉積

 

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