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簡(jiǎn)要描述:LCS專為晶圓和平面基片的半自動(dòng)旋涂和開發(fā)而設(shè)計(jì),將是試點(diǎn)項(xiàng)目、研究所和研發(fā)的*。 它保證了高均勻性和可重復(fù)性以及簡(jiǎn)單的操作和維護(hù)。 它可以處理最大 150 毫米的晶圓或最大 125x125 毫米的方形基片。
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半自動(dòng)旋涂顯影刻蝕機(jī) LCS
LCS專為晶圓和平面基片的半自動(dòng)旋涂和開發(fā)而設(shè)計(jì),將是試點(diǎn)項(xiàng)目、研究所和研發(fā)的*。 它保證了高均勻性和可重復(fù)性以及簡(jiǎn)單的操作和維護(hù)。 它可以處理最大 150 毫米的晶圓或最大 125x125 毫米的方形基片。
為了與試劑等化學(xué)品相兼容,腔體材質(zhì)是由 POM、陽(yáng)極氧化鋁、聚丙烯、不銹鋼或 PTFE 制成。
旋涂工藝程序通過(guò)觸摸屏進(jìn)行設(shè)置。 用戶可以編寫多達(dá) 20 個(gè)步驟的 50 個(gè)程序段。每一步可設(shè)置不同的速度、加速度和時(shí)間參數(shù)。
選配項(xiàng):
· 背面沖洗 (BSR)
· 晶圓去邊 (EBR)
· 氣動(dòng)注射器分配系統(tǒng)
· 電動(dòng)注射器分配系統(tǒng)
· 帶數(shù)字儀表和壓力控制的加壓瓶分配系統(tǒng)
· 各種真空或機(jī)械托盤
· 晶圓對(duì)準(zhǔn)工具
· 腔體材質(zhì)由陽(yáng)極氧化鋁、聚丙烯或 PTFE 制成
特征:
· 擁有觸摸屏界面
· 多達(dá) 5 條試劑管路
· 具有可編程分配高度的電動(dòng)臂
· 占地面積小 600x625 毫米
· 自動(dòng)透明蓋
· 多種尺寸旋涂托盤
· 托盤更換快速簡(jiǎn)便
· 處理腔室易清洗
技術(shù)參數(shù):
晶圓尺寸最大 | 150 mm |
基片尺寸最大 | 125x125 mm |
轉(zhuǎn)速范圍 | 0 - 10 000 rpm |
試劑管路 | 最多 5 個(gè) |
存儲(chǔ)的程序 | 幾乎無(wú)限 |
電源電壓 | 230 VAC 50/60Hz 15A |
CDA 供應(yīng)壓力 | 4-5 bar |
CDA 連接管 | 8 mm |
排氣 | 55-60 m3 |
排氣接頭 | 50 mm |
排水管 | 12 mm |
外形尺寸 | 600x625x1300 mm |
重量 | 130 kg |
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