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  • 2023

    4-23

    NXQ4006光刻機是一種高精度半導(dǎo)體制造設(shè)備,用于制造微型電子元件。該設(shè)備結(jié)合了光學(xué)和機械技術(shù),能夠進行高精度的芯片圖案轉(zhuǎn)移。采用了*光刻技術(shù),能夠?qū)⑿酒膱D案準確地刻在硅片上。硅片表面通過化學(xué)處理、光致電荷分離和電子束曝光等步驟,形成模板,然后利用紫外激光等精確照射,從而印在硼硅玻璃板上。硼硅玻璃板會與硅片結(jié)合,形成芯片。采用了高精度運動控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)很高的精度和穩(wěn)定性,在制造微型電子元件中起著非常重要的作用。這種設(shè)備還能夠處理大量的芯片,提高生產(chǎn)效率。NXQ4006...

  • 2023

    3-19

    WABASH平板硫化機主要用于硫化平型膠帶(如輸送帶、傳動帶,簡稱平帶),它具有熱板單位面積壓力大,設(shè)備操作可靠和維修量少等優(yōu)點。平板硫化機的主要功能是提供硫化所需的壓力和溫度。壓力由液壓系統(tǒng)通過液壓缸產(chǎn)生,溫度由加熱介質(zhì)(通常為蒸汽)所提供。平帶平板硫化機按機架的結(jié)構(gòu)形式主要可分為柱式平帶平板硫化機和框式平帶平板硫化機兩類;按工作層數(shù)可有單層和雙層之分:按液壓系統(tǒng)工作介質(zhì)則可有油壓和水壓之分。WABASH平板硫化機的維護保養(yǎng)時應(yīng)注意以下問題:1、硫化機存放環(huán)境應(yīng)保持干燥、通...

  • 2023

    2-5

    德國Unitemp高溫退火爐主要用于高速鋼、冷熱模具鋼、不銹鋼、彈性合金、高溫合金、磁性材料和鈦合金的真空熱處理、真空釬焊和真空燒結(jié)??焖偻嘶馉t結(jié)構(gòu)特點:加熱室采用不銹鋼框架,隔熱罩為多層石墨氈,使用壽命長,維護方便。采用石墨管加熱器,安裝維護方便,故障率低。德國Unitemp高溫退火爐的詳情:1、改善或消除鑄鋼、鍛、軋、焊等造成的各種結(jié)構(gòu)缺陷和殘余應(yīng)力,防止工件變形、開裂。2、軟化工件進行切削加工。3、細化晶粒,改善組織,提高工件的力學(xué)性能。4、為最終熱處理(淬火、回火)準...

  • 2022

    11-26

    NOVASCAN紫外臭氧清洗機是一種采用無接觸方式,在空氣中進行且在清洗后不必進行干燥。在清洗過程中主要是依靠等中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機理來看,清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài),氣相物質(zhì)被吸附在固體表面,被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子,產(chǎn)物分子解析形成氣相,反應(yīng)殘余物脫離表面。NOVASCAN紫外臭氧清洗機使用注意事項:1、嚴格按機器規(guī)定加工范圍內(nèi)加工木料,否則將導(dǎo)致機器損壞和工作人員傷害。2、本設(shè)備必須由經(jīng)過培訓(xùn)的...

  • 2022

    10-26

    德國Diener等離子清洗機等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生的物質(zhì)。等離子清洗/刻蝕產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電磁場,用真空泵實現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體越來越稀薄,分子間距及分子或離子的自由運動距離也越來越長,受磁場作用,發(fā)生碰撞而形成等離子體,同時會發(fā)生輝光。等離子體在電磁場內(nèi)空間運動,并轟擊被處理物體表面,從而達到表面處理、清洗和刻蝕的效果。德國Diener等離子清洗機的注意事項:1.開箱后檢查機器外觀、艙門、流量計等是否有碰撞損壞或變...

  • 2022

    9-25

    WABASH平板硫化機為實現(xiàn)好的性能、偏差而設(shè)計,WABASH所有的壓力機具有用戶友好操作界面及大可靠性。具備大型鋼板的壓力機同樣有超大臺面,使偏差小化,這樣提高了部件的質(zhì)量。與柱塞式液壓缸并用,一體式液壓系統(tǒng)保證了快速的壓機閉合,慢速閉合段。當考慮需要短的循環(huán)時間、高模壓及溫控時,這種配置是理想的復(fù)合材料壓成型應(yīng)用設(shè)備。WABASH平板硫化機的操作方法:1、按模具尺寸和規(guī)定的單位壓力調(diào)整壓力表,嚴禁超壓硫化。2、嚴禁在平板中積壓不平的板材。3、用硫化板切取試樣時必須墊好保護...

  • 2022

    8-25

    NXQ4006光刻機的工作原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補償各種光學(xué)誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上。然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。NXQ4006光刻機在操作中應(yīng)該要注意以下幾點:1、進入機倉檢查或維修必須切斷電源,掛上警示牌并與中控。2、檢修或檢查時必須使用36V以下照明。3、必須經(jīng)常監(jiān)視機器運轉(zhuǎn)情況...

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